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原位XRD高溫樣品臺(tái)_原位XRD高溫反應(yīng)池

發(fā)布日期:2024-04-11 閱讀量:1365

原位XRD高溫樣品臺(tái)_原位XRD高溫反應(yīng)池

一、產(chǎn)品參數(shù)

池體材質(zhì):316L不銹鋼;

XRD窗口:Be;

密封圈:氟膠圈;

溫度測(cè)試范圍:常溫~300℃ ;

控溫精度:±0.1℃ ;

溫度均勻性:±1℃ ;

氣氛:可通氣氛;

光源:可引入外部光源; 

溫控配置:定制溫控儀,程序控溫,觸摸屏操作(含配套軟件) 。

原位XRD高溫反應(yīng)池1.png

二、產(chǎn)品參數(shù)

池體材質(zhì):SUS316+電鍍/注塑;

窗口:Be;

密封圈:PTFE;

溫度測(cè)試范圍:常溫~600℃ ;

控溫精度:±0.1℃ ;

溫度均勻性:±1℃ ;

池體外表面溫度:≤40℃ ;

氣氛:可接通腐蝕性氣體如氯化氣體、氟化氣體等;

水冷配置:270W循環(huán)水冷機(jī);

溫控配置:定制溫控儀,程序控溫,觸摸屏操作(含配套軟件)。     

原位XRD高溫反應(yīng)池2.png

三、產(chǎn)品參數(shù)

池體材質(zhì):哈氏合金C276(內(nèi)嵌陶瓷)/SUS316電鍍(內(nèi)嵌陶瓷);

窗口:進(jìn)口PI膜/鈹窗;

溫度測(cè)試范圍:常溫~1200℃;

控溫精度:±0.1℃ ;

溫度均勻性:±1℃ ;

池體外表面溫度:≤40℃ ;

氣氛:可通氣氛;

水冷配置:1200W循環(huán)水冷機(jī);

溫控配置:焦耳加熱電源系統(tǒng),程序控溫,觸摸屏操作(含配套軟件)。

原位XRD高溫反應(yīng)池3.png



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