原位紅外反應系統(tǒng)

　　原位紅外電化學ATR系統(tǒng)：

　　原位紅外電化學ATR可以獲得電極表面吸附物種的取向、排列、覆蓋等狀態(tài)信息，是從分子水平研究電極過程的一種有效手段，其中衰減全反射模式的表面增強光譜，由于表面選律簡單、表面信號強、傳質(zhì)容易以及受本體溶液干擾小的優(yōu)點，特別適合實時檢測電極表面動態(tài)過程。該原位反應系統(tǒng)引入了三電極和氣體接口，可以在施加外偏壓的條件下，向溶液中通入CO2、N2等反應氣體，實現(xiàn)光（電）催化原位紅外光譜表征。在此基礎上，通過在單晶硅表面蒸鍍（或濺射等）金層，引入表面等離子共振波，實現(xiàn)表面增強效應，增強該原位表征的信號。

　　原位紅外漫反射系統(tǒng)：

　　原位紅外反應系統(tǒng)是利用傅里葉變換紅外光譜儀對催化劑或物料在多環(huán)境下的性能進行原位評價的設備。可方便地跟蹤鑒定反應中間態(tài)和產(chǎn)物，從而為催化反應體系反應機理的考察給出直接的證據(jù)。原位紅外漫反射主要用于氣固相催化的表征和催化反應的研究，如催化劑表面羥基的鑒別、催化劑表面物種吸附態(tài)研究、催化劑表面酸堿性的表征。該反應系統(tǒng)可應用于真空到高壓環(huán)境，溫度高達500°C（真空下），是研究多相催化、氣固相互作用、光化學反應和氧化機理等方向的理想選擇。目前已應用于光催化降解氣相有機物、熱催化（CO+H2、CO2+H2）等領域的氣固界面反應的紅外光譜研究。

　　產(chǎn)品參數(shù)：

　　池體主要采用316L不銹鋼材質(zhì)，最高耐溫500℃，耐壓3Mpa；/  哈氏合金材質(zhì)，最高耐溫800℃，耐腐蝕；

　　反應池可以配備高精度觸摸屏溫控儀進行精確控溫和加熱，同時利用冷卻循環(huán)裝置對反應池外部進行降溫；

　　反應池腔帽有三個窗口，其中兩個為紅外窗口，另一個為石英窗口，用于引入外部光源（光催化激發(fā)光源）或作為觀察窗口使用；

　　提供三個入口/出口，用于抽空池體和引入氣體,可在反應池中形成VOCs、CO2等反應氣,反應尾氣先通入安全瓶再經(jīng)特定溶液吸收后排至室外,各路氣體均通過質(zhì)量流量計來控制流量,反應氣路操作界面方便友好，易于操作；

　　可定制各類光學窗口，可選配高溫拉曼池蓋。

　　原位紅外透射系統(tǒng)：

　　原位紅外透射池反應系統(tǒng)主要用于研究樣品在不同溫度和氣體環(huán)境下的紅外光譜特征。產(chǎn)品主要由反應池、混氣控制系統(tǒng)及溫度控制系統(tǒng)三部分構成。其中反應池主體采用316L不銹鋼材質(zhì)，并配備紅外窗片，混氣控制系統(tǒng)通過質(zhì)量流量計精確控制各路氣體流量并實現(xiàn)混合，溫度控制系統(tǒng)通過各類傳感器實現(xiàn)對氣路、混氣罐及反應池溫度的控制。

　　產(chǎn)品參數(shù)

　　高清800*480分辨率的真彩觸屏流量控制,操作簡單,使用方便;

　　本產(chǎn)品擁有三段加熱及四路溫度顯示,實時了解各位置溫度,控溫精度土0.1C;

　　標準提供2~4 路配氣氣路，氣路數(shù)量可定制;

　　反應池最高可耐溫300°C;

　　反應池主體采用雙層夾套設計以保證實驗的保溫及安全。